Csak egy cég van a világon, amely 200 millió dolláros, iskolabusz méretű EUV (extrém ultraibolya litográfia) gépeket épít, amelyek emberi hajnál vékonyabb áramköri mintákat szilícium lapkára marnak. Ez a cég az ASML, egy holland cég, amely tavaly közel 26 milliárd dollár bevételre tett szert. Az EUV gépekre azért van szükség a 7 nm alatti chipek gyártásához, mert rendkívül finom vonalakat kell maratni ahhoz, hogy megfeleljen a több milliárd tranzisztornak, amelyek a legmodernebb chipekbe vannak csomagolva.
A múlt héten a Canon bejelentette a nanoimprint litográfiai (NIL) technológiát, amely 5 nm-es chipek előállítására használható. A TSMC és a Samsung Foundry EUV gépeket használ 3 nm-es chipek gyártására, az ASML továbbfejlesztett gépével, amely hamarosan 2 nm-es gyártást is lebonyolít. Mindkét öntöde arra számít, hogy 2025-ben 2 nm-es chipeket fognak kiadni.
A japán cég elmagyarázza, mitől más a NIL. "A hagyományos fotolitográfiai berendezésekkel ellentétben, amelyek az áramköri mintát a reziszt bevonatú ostyára vetítve adják át, az új termék ezt úgy teszi, hogy az ostyán az áramköri mintával nyomtatott maszkot bélyegszerűen megnyomja. Az átviteli folyamat nem megy keresztül optikai mechanizmuson, a maszkon lévő finom áramköri minták hűen reprodukálhatók az ostyán. Így összetett két- vagy háromdimenziós áramköri minták alakíthatók ki egyetlen lenyomatban."
A Canon szerint a maszktechnológia fejlesztésével a NIL képes lesz 2 nm-es chipek létrehozásában. Jelenleg a technológia 14 nm-es minimális vonalszélességű áramköri mintákat képes maratni, ami 5 nm-es gyártásnak felel meg. A Canon szerint a NIL várhatóan támogatni fogja a 10 nm-es minimális vonalszélességet, ami megegyezik a chipek 2 nm-es folyamatcsomópont segítségével történő építésével. A NIL csökkentheti a chip gyártásához felhasznált energiát, mivel nincs szükség speciális hullámhosszú fényforrásra.
Az ASML extrém ultraibolya litográfiai gépe, amely körülbelül akkora, mint egy iskolabusz
A sajtóközlemény ellenére Gaurav Gupta, a Gartner elemzője a The Registernek azt mondta: "Meglepődnék, ha lenne olyan jelentős technikai áttörés, amelyet a Canon hirtelen elért." A nanonyomatos litográfia már egy ideje koncepció, de számos probléma merült fel vele kapcsolatban. A memóriachipeket fejlesztő SK Hynix és a Toshiba elektronikai cég még 2015-ben egyezményt írt alá a NIL fejlesztéséről.
De van itt egy probléma, amelyet az Egyesült Államoknak gyorsan meg kell oldania. Az ASML az Egyesült Államok szankciói miatt nem szállítja ki EUV gépeit Kínába, de lehetséges, hogy mivel a NIL nem használ élvonalbeli optikát, mint az EUV, a Canon képes lehet Kínába szállítani a technológiát, így az öntödék, például SMIC-et (a legnagyobb Kínában) képesek lehetnek 5 nm-es, 3 nm-es és 2 nm-es chipek előállítására.
Láttuk, hogyan reagáltak az amerikai törvényhozók és tisztviselők, amikor a Huawei bemutatta a Mate 60 Pro-t, amely egy 7 nm-es Kirin 9000s chippel működik, amely támogatja az 5G-t. A mai napig nem tudják, hogy az SMIC hogyan tudta legyártani a chipet, figyelembe véve a jelenlegi amerikai exporttilalmat.
Az egyik elmélet, amelyet egy tippmester a múlt héten tett közzé, az volt, hogy a Kirin 9000s nem a SMIC által gyártott 7 nm-es chip volt, hanem valójában egy régebbi Kirin 9000 SoC a Huawei készletéből. Utóbbit a TSMC készítette a betiltás 2020-as bevezetése előtt az 5 nm-es folyamatcsomópontjával.
A Gartner's Gupta azt mondja: "Nem számítunk öt év előtt kereskedelmi hatásra, és elsősorban memóriachipekkel kezdjük. Nagy hiányosságok vannak az élvonalbeli csomópontok kutatás-fejlesztésében vagy koncepció képességében… szemben a nagy volumenű végrehajtással, és ez a kihívás." Arra számítanak, hogy az Egyesült Államok hamarosan meg fogja akadályozni ennek a technológiának a Kínának történő értékesítését.
